低温恒温循环器的主要特点介绍

低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

低温恒温循环器主要特点

●风冷式高效全封闭制冷压缩机,降温速度快。

●微机智能控制,温度**温度。

●数显分辨率0.1℃或0.01℃，具有温度测量值偏差修正功能。

●温度超温保护,自动切断电源并报警。

●制冷系统过热、过流自动保护。

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